图文详情
本底真空度优于10-9 Torr;
最大3英寸基片;
基片台功能:加热800C,旋转,偏压;
2寸靶枪最多可放置4支;
靶枪可倾斜,升降,可升级强磁靶头;
可选配快速进样室,进样室可清洗基片;
可配备离子束辅助沉积;
可配备多路工艺气路;
自动压力控制系统。
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本底真空度优于10-9 Torr;
最大3英寸基片;
基片台功能:加热800C,旋转,偏压;
2寸靶枪最多可放置4支;
靶枪可倾斜,升降,可升级强磁靶头;
可选配快速进样室,进样室可清洗基片;
可配备离子束辅助沉积;
可配备多路工艺气路;
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